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請問下列句子在半導體裡是什麼意思(20點) E-beam lithography 電子束微影術 是將所需的圖形縮小複製到晶片上的技術,並利用能量為數萬電子伏特(eV)的「電子束」作為曝光源。由於電子的波長比一般光微影製程所使用的光源波長更小，因此能提供更高的解析度。

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